Lecture 8:PN 结在光电领域的应用

基于 PN 结的光伏电池、太阳能电池 I-V 特性、太阳能光伏电池的四代技术

能量用的多->太阳能好啊用不完->利用率低,如何提高

基于 P-N 结的光伏 (PV) 电池 | P-N Junction-Based PV Cell

太阳能(光能)获取步骤

  1. Photons are absorbed in the semiconductor resulting in the creation of electron-hole pairs | 光子在半导体中被吸收,从而产生电子-空穴对。

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  1. The photo-generated electron-hole pairs are physically separated at the p/n junction | 光生电子-空穴对在 p/n 结处发生物理分离。(耗尽区的内建电场分离电子空穴)

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  1. The photogenerated carriers are collected by the contacts on the front and rear of the cell | 光生载流子被电池正面和背面的接触电极收集。
  2. The photocurrent can be delivered to an external load at an applied voltage to perform useful work | 光电流可以在一定的外加电压下输送到外部负载,从而做功。

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太阳能电池:基本要求 | Solar Cell: Basic Requirement

转换效率:包括光吸收、材料带隙、复合/输运以及接触电阻。

可靠性:包括环境稳定性以及使用寿命。

热容:热量会降低光伏效率(特别是对于单晶硅电池)。

Conversion Efficiency

  • Light absorption
  • Material band-gap
  • Recombination/transportation
  • Contact

Reliability

  • Environmental stability
  • Lifetime

Heat Capacity

  • Heat degrades PV efficiency (especially for single crystalline silicon)

效率损失机制 | Efficiency loss mechanism

  • thermal loss

Eph>EgE_{ph} > E_g时,多余能量以热能散失

  • junction loss

电池输出的电压无法达到理论上的最大值

  • contact loss

欧姆接触损失的能量

  • recombination loss

未收集就复合了

太阳光谱 | solar spectrum

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提醒

具有固定带隙的半导体光伏(PV)电池仅能转换太阳光谱中一部分的能量 |A semiconductor PV cell with fixed band-gap only convertsenergy in a portion of solar spectrum

Photon Energy (eV)=hcλ=1.24λ(μm)\text{Photon Energy (eV)} = \frac{hc}{\lambda} = \frac{1.24}{\lambda (\mu\text{m})}

只有当光子能量大于EgE_g时,即hcλ>Eg\frac{hc}{\lambda}>E_g,光子才能被吸收

λmax=hcEg=1.24Eg\lambda_{max}=\frac{hc}{E_g}=\frac{1.24}{E_g}可以求到最大能够吸收的光的波长

光吸收 | light absorption

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核心物理概念 α\alpha

  • 光强衰减规律:
Light intensity (x)∝e−αx\text{Light intensity }(x) \propto e^{-\alpha x}

这表示光进入材料后,强度随深度 xx 呈指数衰减。

  • 吸收系数 (α\alpha):

单位是 cm−1\text{cm}^{-1}。α\alpha 越大,表示材料吸收光的能力越强,光衰减得越快。

  • 光穿透深度 (Light penetration depth):

定义为 1/α1/\alpha。它表示光强度衰减到入射强度的 1/e1/e(约 37%)时所穿透的距离。吸收系数越大,穿透深度越浅(光在表面就被吸收了)。

  • 光子能量与波长的关系:
Photon Energy (eV)=hcλ=1.24λ(μm)\text{Photon Energy (eV)} = \frac{hc}{\lambda} = \frac{1.24}{\lambda (\mu\text{m})}

这是一个非常实用的工程公式。它说明光子能量(eV)与波长(μm\mu\text{m})成反比。波长越短,能量越高。

图表分析

关键观察:

  • GaAs, InP (直接带隙半导体): 我们可以看到 GaAs 的曲线在达到带隙能量(约 1.42 eV)后,吸收系数急剧上升(几乎是垂直的)。这意味着一旦光子能量足够,它们能极快地吸收光子。
  • Si (间接带隙半导体): 硅的曲线虽然也上升,但显得比较平缓。这意味着硅在带隙附近的吸光能力较弱,需要更厚的材料才能充分吸收光。

核心结论

"A thinner layer of direct-gap semiconductor can absorb most of solar radiation than indirect-gap semiconductor."

这句话总结了这张图的实际应用意义:

  • 直接带隙半导体 (Direct-gap, 如 GaAs): 吸光效率非常高。因此,在制造太阳能电池或光电探测器时,只需要很薄的一层材料(几微米甚至更薄)就能吸收大部分太阳光。
  • 间接带隙半导体 (Indirect-gap, 如 Si): 吸光效率较低(因为电子跃迁需要声子的参与,概率较低)。因此,硅基太阳能电池通常需要较厚的硅片(通常为几百微米)才能保证足够的光吸收。

直接带隙间接带隙 | direct indirect-gap

  • 直接带隙α\alpha 大
  • 间接带隙α\alpha 小

太阳能电池的 I-V 特性 |Solar Cell I-V Characteristics

机制

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物理机制(左上图)

Light (光照): 光从左侧射入。

Short Circuit (短路): 电池的两端(N区和P区)被一根导线直接连接。在这种情况下,电压 V=0V=0,电路中流过的电流被称为短路电流 (IscI_{sc})。

核心方程:

I=I0(eqV/kT−1)−IscI = I_0(e^{qV/kT} - 1) - I_{sc}
  • I0(eqV/kT−1)I_0(e^{qV/kT}-1): 二极管电流(暗电流)。它随电压 VV 指数增加。
  • −Isc-I_{sc}: 光生电流。这一项是负值,表示光照产生的电流方向与二极管正向导通电流方向相反。正是这一项让曲线向下平移。

可以将暗电流理解为PN结发电的损失

关键定义

IscI_{sc} (Short-circuit current): 短路电流。即当电压 V=0V=0 时流过的电流(对应图中曲线与 Y 轴的交点,值为 −Isc-I_{sc})。它主要取决于光照强度和材料的吸光能力。

VocV_{oc} (Open-circuit voltage): 开路电压。即当电流 I=0I=0 时电池两端的电压(对应图中曲线与 X 轴的交点)。这是太阳能电池如果不接负载时能产生的最大电压。

总结:光照产生了一个恒定的光生电流 (−Isc-I_{sc}),这个电流叠加在普通的二极管 I-V 曲线上,使其向下平移,从而使器件具备了发电能力(在 VocV_{oc} 和 00 之间工作时输出功率)

太阳能电池的效率

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  • 填充因子
FF=实际最大功率理论极限功率=(I×V)maxIsc×VocFF = \frac{\text{实际最大功率}}{\text{理论极限功率}} = \frac{(I \times V)_{max}}{I_{sc} \times V_{oc}}
  • 输出功率的计算公式
Output Power=Isc×Voc×FF\text{Output Power} = I_{sc} \times V_{oc} \times FF
  • 太阳能电池效率 (η\eta)
η=(I×V)maxinput solar power\eta = \frac{(I \times V)_{\text{max}}}{\text{input solar power}}

IscI_{sc} 和VocV_{oc} 推导

这里的推导和PN结很像,应该不会考,直接给出结论

  • Isc=AqLpGI_{sc} = A q L_p G
    • GG : 光生载流子产生率
    • LpL_p: 扩散长度

G是不均匀的,材料的扩散长度 LpL_p 必须足够大(大于光的穿透深度),这样光生载流子才能在死掉(复合)之前跑到 PN 结被收集起来。

  • Voc=kTqln⁡(τpGNdni2)V_{oc} = \frac{kT}{q} \ln\left(\frac{\tau_p G N_d}{n_i^2}\right)
    • τp\tau_p: 少子寿命
问题

如何提高 VocV_{oc}?

  1. 增加 GG:光照越强,电压越高(对数增长)。
  2. 增加 NdN_d:提高掺杂浓度。
  3. 增加 τp\tau_p:提高少子寿命(即提高材料质量,减少缺陷)。
  4. 减小 nin_i:这通常意味着使用禁带宽度 (EgE_g) 更大的材料(因为 nin_i 与 EgE_g 呈指数反比关系)。

小结

  1. 硅太阳能电池目前以 15-20% 的效率占据市场主导地位。
  2. 理论上,当禁带宽度在 1.2 eV1.2 \text{ eV} 到 1.9 eV1.9 \text{ eV} 之间时,可以获得最高效率(约 24%)。
  • 禁带宽度 (EGE_G) 过大:会导致光吸收率过低,从而使短路电流 (IscI_{sc}) 太小。

原因:只有能量 hν>EGh\nu > E_G 的光子才能被吸收。如果EGE_G 太高,大部分太阳光(能量较低的部分)都无法被吸收,直接穿透过去了,导致光生电流很小。

  • 禁带宽度 (EGE_G) 过小:会导致开路电压 (VocV_{oc}) 太低。

原因:EGE_G小, nin_i大,根据上述的式子,VocV_{oc}小 。或者可以理解成,带隙越小,内建电势差就越小,导致输出电压上不去。虽然吸收的光多了,但每个电子携带的能量(电压)很低。

  1. 叠层太阳能电池 (Tandem solar cells) 通过使用针对太阳光中短波长和长波长定制的大带隙和小带隙材料,可以获得 35% 的效率。

太阳能光伏(PV)电池的四代技术 | Four Generations of Solar PV Cell

感觉这个发展历程了解就行吧

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翻译上述内容

早期工作

  • 1839 年:发现阳光照射在固体材料上可以产生电流
  • 1921 年:爱因斯坦因解释光伏(PV)效应而获得诺贝尔奖
  • 1941 年:第一块太阳能电池被发明

技术代际:

  • 第一代(自 20 世纪 70 年代起)
    • 晶体硅(Si)光伏技术
      • 单晶硅、多晶硅、(此处写作)多晶/聚晶硅
  • 第二代(自 20 世纪 80 年代中期起)
    • 无机薄膜半导体
      • 非晶硅(a-Si)、多晶硅薄膜(poly-Si)、碲化镉(CdTe)、CIS/CIGS(铜铟硒/铜铟镓硒)、III-V 族化合物半导体
  • 第三代(开始进入市场)
    • 有机/聚合物与纳米技术路线
      • 染料敏化、纳米晶/量子点、给体-受体异质结
  • 第四代(to come)
    • 从生物学汲取灵感

主要光伏(PV)机理 | Major PV Mechanisms

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翻译上面内容

  • 旧机理:半导体 P-N 结(第一代与第二代)
    • 晶体硅 c-Si、非晶硅 a-Si、多晶硅 poly-Si
    • III-V 族化合物半导体
    • CdTe(碲化镉)
    • CIS/CIGS(铜铟硒 / 铜铟镓硒)
  • 新机理:给体-受体(D-A)结(第三代——纳米技术)
    • 塑料、有机聚合物
    • 分子(材料)

第一代:晶体硅(Si)光伏电池

块体/晶圆型 vs 薄膜型光伏电池 | Bulk vs. Thin-Film PV Cells

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块体晶圆型(Bulk Wafer)光伏电池以一整片较厚的晶体硅晶圆为主体,在晶圆内部形成 P-N 结。光照进入硅体后产生电子-空穴对,由结区内建电场分离载流子,电流通过金属电极与外电路输出。它的典型特征是结构较厚、材料用量较大、工艺偏“晶圆加工”,整体技术成熟、稳定性强。

薄膜型(Thin-Film)光伏电池不靠厚晶圆,而是把功能材料一层层沉积在基底上(如玻璃等),形成包括盖板、减反层、集电电极、P/N 型半导体层和背电极等“层状堆叠”结构,同样依靠结区/界面完成载流子分离并输出电流。它的典型特征是结构更薄、材料用量更少、可实现大面积与多种基底形态(更灵活),但不同薄膜体系在效率与稳定性上与晶圆硅路线各有取舍。

高效率硅太阳电池 | High-Efficiency Silicon PV Cell

为了把硅电池效率做高,需要同时从光学吸收、载流子复合损失、以及电极遮挡/电阻损失三方面进行优化。

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  1. 表面织构增强“陷光” | Texture surface design to enhance light trapping 上表面做成类似“倒金字塔(inverted pyramids)”的微结构。作用:让入射光在表面多次反射、路径变长,减少反射、增加吸收,等于“把光留在电池里更久”。
  2. 表面钝化 | Surface passivation 表面会有缺陷/悬挂键,容易让电子-空穴复合,造成损失。通过在表面覆盖 氧化层/钝化层,减少表面复合,提升载流子寿命,从而提高电压与效率。
  3. 背接触减少遮挡损失 | Back contacts to prevent shading losses

传统电池正面有金属栅线,会遮住部分光(shading loss)。因此把电极尽量放到背面(rear contact / back contact),正面更干净,能接收更多光。

  1. 实验室最佳效率约 25% | Efficiency: best 25% (lab)

第二代:薄膜/柔性光伏(PV)电池 | 2nd Generation: Thin-Film/Flexible PV

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翻译如图

成本、重量与柔性

用料更少(厚度 1–10 微米);可进行大面积制程;可用柔性/可弯曲基底(玻璃、不锈钢或塑料)。

材料(无机半导体)

非晶硅 a-Si、多晶硅 poly-Si、III-V 族(GeAs、InN)、碲化镉 CdTe、CIS/CIGS(铜铟硒 / 铜铟镓硒)

制造工艺

物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、卷对卷印刷(roll-to-roll)

市场

不仅进入传统市场(屋顶光伏),同时也创造新应用:建筑一体化产品,消费电子(手机等),一次性电子产品。

薄膜非晶硅光伏电池 |Thin-Film Amorphous Silicon PV Cell

非晶硅薄膜电池用气体沉积薄膜的方式减少对硅晶圆的依赖,从而降低成本、支持大面积/柔性形态;代价是单结效率通常较低,但它在温度变化下的发电表现更稳定。

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翻译

降低光伏成本的方法

以 SiH₄(硅烷)气体作为硅源,不与半导体行业争夺硅晶圆资源。

特点

  • 缺点:光伏效率较低:单结电池通常只有 6%~8%
  • 优点:对发热/温度不太敏感:发电更稳定、更一致

硅太阳电池效率 | Silicon Cell Efficiency

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上述表格把硅电池按材料分成三类:单晶硅、多晶硅、非晶硅。整体效率大小关系是单晶硅 > 多晶硅 > 非晶硅。

实验室效率通常来自小面积、工艺精细、材料质量高、测试与封装条件受控的样品,因此能逼近材料/结构的上限。量产效率需要考虑:大面积均匀性、成本约束、缺陷与杂质控制难度、电极/封装带来的额外损失、生产良率等,所以通常低于实验室记录。

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在太阳光下:太阳光包含大量近红外能量,而 c-Si(晶体硅)的响应范围更宽,能延伸到更长的近红外波段,所以更适合做高效率的户外发电。

在室内光/荧光灯下:室内光谱更偏可见光、且与人眼亮度敏感区更接近;a-Si(非晶硅)的响应也更集中在可见光,因此在一些低照度/室内供电的小功率场景(例如小型电子、计算器等)往往更更适合,但是它在标准太阳光下的面积效率不如晶体硅。

其他材料:带隙与效率 | Other Materials: Band-Gap & Efficiency

约 1.4 eV 的带隙与太阳光谱强度最强的那部分光子的能量相匹配,而硅的带隙是 1.1 eV,并非最优;但由于晶体质量高,仍能实现较高效率(14–17%),下面介绍其他材料的带隙和效率。

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纯了解吧,要考的话,scy吃粑粑

砷化镓(GaAs)

  • 带隙:1.4 eV(处在最优范围)
  • 效率:>30%

碲化镉(Cadmium Telluride, CdTe)

  • 带隙:1.5 eV
  • 效率:8–10%

Cu(InGe)Se₂(铜铟锗硒,常见同族为 CIGS/CIS 路线)

  • 带隙:可变 1.0–1.2 eV
  • 效率:9–11%
  • 抗辐照能力强

In₁₋ₓGaₓN(铟镓氮,可调组分合金)

  • 带隙:0.7–3.4 eV(可调)
    • 这意味着可以用多层结构去吸收不同波长的光,并且晶体结构不会失配(不容易出现晶格不匹配问题)

结结构 | Junction Structure

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  1. 同质结(Homo-junction) 指同一种半导体材料内部形成的结(最典型就是同一块硅里做 p 区和 n 区形成 p–n 结)。应用案例:晶体硅(c-Si)太阳电池。
  2. 异质结(Hetero-junction) 指由两种不同半导体材料接触形成的结(材料不同,带隙/能带结构不同)。应用案例:CdS/CdTe、CdS/CIGS 太阳电池
  3. p-i-n 与 n-i-p 结 在 p 与 n 之间加入一层本征层 i(intrinsic),形成 p-i-n;反过来沉积顺序也可以是 n-i-p。这种结构在薄膜材料(尤其是 a-Si 非晶硅)很常见:因为薄膜里缺陷多、载流子寿命短,用 i 层和较强内建电场来帮助光生载流子的产生,降低复合损失。应用案例:非晶硅(a-Si)、多晶硅(poly-Si)太阳电池。
  4. 多结(Multi-junction) 把多个“子电池”垂直叠层,每一层用不同带隙材料,分别吸收太阳光谱的不同部分。(见上右图)。应用案例:III-V、a-Si、CIS 太阳电池。

单结电池只能用一个带隙:要么吸不到低能光(透过损失),要么高能光多余能量变热(热化损失)。

多结通过分层吸收(光谱分割),能同时减少这两类损失,所以整体效率更高。

III-V 族半导体光伏电池 | III-V Semiconductor PV Cells

III-V 族半导体(如 GaAs、GaInP 等)太阳电池的两种路线:单结与多结(叠层)。其中多结能更高效、但也更昂贵且对材料匹配要求更苛刻。

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单结(Single Junction)

  • 最大理论效率约 30%;最佳实际水平约 25%。

多结(Multi-Junction)

  • 两层:最大效率约 50%,最佳实际水平约 30%。
  • 多层:若各层带隙差别较小并堆叠起来,可接近 >70% 的最大效率。
  • 由于晶格/应变失配产生的晶体缺陷会严重降低效率。
  • 成本高:适合航天或军事应用。

最高效率光伏电池 | Highest Efficiency PV Cell

了解

最高效率的光伏电池通常来自 III-V 族材料的多结(叠层)设计,通过“光谱分割”让不同带隙的子电池各自负责吸收最适合的波段,从而显著提高总效率。

2005 年 7 月,Spectrolab 报道了当时效率最高的太阳电池:一款 39.0% 的 GaInP₂/GaAs/Ge 三结(叠层)太阳电池。

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“全光谱”光伏电池 | “Full-Spectrum” PV Cell

又双是一种电池

用同一种材料体系 In₁₋ₓGaₓN(铟镓氮)做多结电池。因为它的带隙可通过组分 x 大范围可调(0.7~3.4 eV),理论上能覆盖从近红外到远紫外的太阳光子能量范围,从而把太阳光谱更充分地转成电能。

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单一材料体系——铟镓氮(In₁₋ₓGaₓN)合金可覆盖太阳光谱中 0.7~3.4 eV 的能量范围(从近红外到远紫外)。两层铟镓氮:一层将带隙调到 1.7 eV,另一层调到 1.1 eV,理论上可达到 50% 的最大效率,但是实际效率取决于载流子“组合/复合”等因素。

第三代:纳米技术光伏电池 | 3rd Generation: Nanotechnology

优势:可在分子尺度进行设计,重量轻,可柔性/可弯曲,材料与制造成本低,有望提高效率(但是仍需证明),环境影响较小。

技术路线:量子点(或纳米晶)光伏,聚合物光伏,染料敏化(或 Graetzel)光伏,纳米线/纳米管光伏,分子光伏。

关键挑战:可规模化生产、可控合成、对环境敏感、长期可靠性。

用于太阳电池的量子点 | Quantum Dot for Solar Cell

纳米尺度颗粒在吸收光并产生电子方面具有巨大潜力。原因 :量子点是纳米级半导体晶体(纳米晶)。当尺寸小到一定程度,会出现量子限域效应:电子能级变得离散、带隙会随着尺寸变化而变化。这使得材料不再是固定带隙,而是可设计带隙,对太阳能吸收非常有吸引力。

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吸收可调(可调带隙)

带隙与量子点尺寸成反比,通过改变量子点尺寸,可以把光伏器件的吸收范围从红外调到可见光;高效的光-电转换既需要高电流也需要高电压,这其中存在一个对应最高转换效率的“最佳带隙”。

  • 带隙大 —— 输出电压高
  • 带隙小 —— 输出电流高,但输出电压低

载流子倍增

吸收一个光子可能产生 2 个甚至 3 个激发电子,最多可到 7 个(量子效应)。最早在硒化铅(PbSe)中观察到,随后在硒化镉(CdSe)、碲化镉(CdTe)中也观察到。

陷光(光俘获)

量子点/纳米材料往往可以做成多散射、多孔或纳米结构层,光进入后会在内部多次散射/反射,等效光程变长,从而在材料很薄的情况下也能提高吸收;有利于薄膜、柔性器件设计。(如上右图)

中间能带光伏电池 | Intermediate-Band-gap PV Cell

在传统半导体的价带—导带之间,通过引入量子点等纳米结构形成一组“中间能级/中间能带”,从而让电池能吸收更多原本吸收不到的低能光子,提高对太阳光谱的利用率,理论效率上限非常高。

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在太阳能电池中使用量子点来形成中间能带(intermediate bands),可以收集/利用太阳光谱中更大比例的能量。理论最高效率:63.2%(约为硅的 3 倍),其适用于薄膜器件(基于溶液的涂覆/印刷)。

有机异质结太阳能电池 | Organic Hetero-junction Solar Cells

对于有机光伏两种异质结结构进行对比:

双层结构界面少,激子难到达界面导致损失。

本体异质结把界面“铺满整个体相”,更利于激子分离与电荷收集,因此通常更有潜力提高效率。

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当时该类有机异质结电池已达到的一个效率水平(3.5%)。

量子点光伏(QD-PV)技术的挑战 | Challenge of QD-PV Technology

  1. 对光的吸收能力差解决方案:量子点可以被构造成多种不同的形态,如:导电聚合物、溶胶-凝胶(sol-gel)或多孔薄膜
  2. 量子点之间导电性差解决方案:提高导电性(使用高导电聚合物);使用纳米线、纳米棒或碳纳米管来传导载流子。

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红外(IR)太阳能电池 | Infrared (IR) Solar Cells

用红外做太阳能电池的困难

太阳光能量中有 48% 属于红外(波长:700 nm~1 mm),红外光子能量较低,因此不太容易在半导体中打出电子(激发产生载流子)。而带隙为 0.025–0.05 eV 的半导体在室温下会充满热激发载流子,这些载流子会把光生信号淹没,甚至把光生电流短路掉。为了压低热激发载流子,电池需要冷却到液氮温度以下才能工作。因此在室温下用传统单结半导体难以实现红外太阳能电池。

可能实现的技术方向

  • 用量子点从红外光中提取能量(纳米材料)。
  • 使用特殊的半导体材料(往往需要很多层)来利用更低能量的光子。

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第四代:生物光伏电池 | 4th Generation: Biological PV

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PV=Photovoltaic 光伏

总结了以下左边那一大段文字,了解即可

  1. 光对生命的重要性

光合作用是地球生物圈能量的主要来源之一,所以研究“怎么高效用光”非常关键。

  1. 绿色来自叶绿素(Chlorophyll)

植物看起来是绿色,是因为叶绿素参与吸收太阳光(它主要吸收红光/蓝光,反射绿色)。

  1. “集光装置”的结构:很多叶绿素被蛋白质“密集摆放”

在蓝藻(cyanobacteria)里发现了一种收集阳光的装置结构(植物里也有类似机制),特点是:

  • 多达 96 个叶绿素
  • 被一个蛋白质复合体固定在很近的距离

这相当于一个“光天线阵列”:用很多吸光分子把光尽可能抓住,再把能量集中输送。

  1. 能量传递到“中心叶绿素对”,并产生电荷分离
  • 叶绿素先吸收光子 → 变成“激发态能量”
  • 这份能量会被“递送”到一个中心的叶绿素对(类似反应中心)
  • 反应中心把能量用来驱动电子转移/形成跨膜电荷 → 于是产生类似电池的“电势差/电化学梯度”
  • 所以文字说它“像一个极其高效的生物太阳能电池”。
  1. 量子/理论分析:它很“鲁棒(fault tolerant)”
  • 去掉(pruning)少量甚至多量叶绿素,效率影响不大 → 说明体系有冗余、抗损伤
  • 但如果改变叶绿素的空间排列,效率会下降 → 说明“几何排布/耦合关系”对高效传能很关键
  • 因为自然环境光照强、损伤持续发生,所以这种鲁棒性对生物很重要。

Light Emitting Diodes | 发光二极管

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LEDs are made of compound semiconductors such as InP and GaN.

要高效率发光(把电能变成光,而不是热),材料最好是“直接带隙”的,而且带隙大小要能覆盖你想要的颜色/波长。

直接带隙和间接带隙(Direct vs. Indirect Band Gap Materials)

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直接带隙:

III V Group elements

Little change in momentum is required for recombination-> momentum is conserved by photon emission(原文) Material:GaAs

复合(过程)只需要很小的动量改变→\rightarrow动量通过发射光子得以守恒

间接带隙:

Silicon、锗等

Large change in momentum is required for recombination ->momentum is conserved by phonon + photon emission(原文)Material:Si

复合(过程)需要很大的动量改变→\rightarrow 动量通过声子和光子的发射得以守恒

Light is emitted when electron and hole undergo radiative recombination.

当电子和空穴发生辐射复合(radiative recombination)时,会把能量以光子(photon)的形式释放出来

然后注意看一下能带图,左边是radiative recombination,所以是可以发光的,但是右边是Non-radiative recombination through traps,是陷阱导致的非辐射复合,不发光

  • 陷阱能级(trap states):材料缺陷、杂质、位错等在禁带中引入的能级
  • 电子不是“一步到位”掉到价带,而是先被陷阱捕获,再一步步往下
  • 这过程中能量主要变成晶格振动(声子) → 通俗说就是变成热,而不是光

LED Diode Structure

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首先明确,基本的LED需要做成一个PN结的结构,并且正向偏置

提醒

如果没有 p-n 结构,你很难在同一块材料里同时得到“高密度电子 + 高密度空穴”,更难把它们稳定地驱动到同一位置。

p-n 结在正向偏置时会发生“载流子注入”:

  • n 区的电子被注入到 p 区一侧
  • p 区的空穴被注入到 n 区一侧

于是,在结附近会形成一个区域:电子和空穴同时很多 → 复合(包括辐射复合)概率就大。

就像右图中展示的这样:

  • 黑点/小圆点可以理解为两类载流子:
    • 电子(electrons):主要在 n 区多
    • 空穴(holes):主要在 p 区多
  • 中间那块区域(靠近结的地方)是关键:p-n 结附近的复合区(有源区)。

当 LED 正向偏置时会发生:

  • 电子从 n 区被“推”向 p 区(跨过势垒注入到结附近)
  • 空穴从 p 区被“推”向 n 区
  • 它们在结附近相遇并复合:
    • 如果是辐射复合:能量以光子 photons形式放出 → 图里“Emitted photons”的波浪箭头
    • 如果是非辐射复合:能量变成热(之前提到 traps 就是这类损耗来源)

一个不是很重要的点:

外面那个半圆形标了 Lens(透镜):实际 LED 外面常见的透明“圆头”,通常是环氧/硅胶封装,起到:

  1. 保护芯片与引线(机械保护、防潮等)
  2. 改善出光(光提取效率):半球/透镜形状能把更多光从高折射率半导体里“导出来”,减少全反射造成的困光
  3. 改变光束角:让光更集中或更均匀(取决于透镜形状)
LEDWavelength  λ(μm)=1.24photonenergy≈1.24Eg(eV)LED Wavelength \ \ λ(μm)=\frac{1.24}{photon energy}≈\frac{1.24}{Eg(eV)}

来源就是最基本的光子能量公式:E=hcλE=\frac{hc}{\lambda}

LED Materials and Structure

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左边的表格就是一些化合物半导体以及他们对应产生的光波长(总是应该不用记吧)

Compound Semiconductors | 化合物半导体的分类

Binary Semiconductors | 二元
  • 例子:GaAs
  • 材料本身性质固定(带隙、晶格常数基本固定),但很多二元材料是直接带隙,所以“efficient emitter”(发光效率高)
Ternary Semiconductors | 三元
  • 例子:GaAs1−xPxGaAs_{1-x}P_x
  • 这里的x是成分比例。改变x就能改变材料的:带隙 EgE_g 从而改变发光颜色/波长(很多 LED 的“调色”本质就是调合金成分)
Quaternary Semiconductors | 四元
  • 例子:AlInGaP
  • 优势是可以同时调:
    • 带隙 EgE_g(决定颜色)
    • 晶格常数(决定能否与衬底匹配、外延质量)
  • 四元材料允许你一边把颜色调到想要的波长,一边把晶格常数调到接近某个“便宜或成熟”的衬底,从而长出高质量外延薄膜(缺陷少 → 非辐射少 → 更亮)。
提醒

上课强调过,由于Si是间接带隙材料,所以无法做LED

Common LEDs

一个更加系统的表格+一个画出能带里费米能级的图+LED的示意图

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右下角图中的单词及概念:

Epoxy dome:环氧树脂穹顶(就是你看到的透明头)

Reflecting cup:反射杯(把向下/侧向的光反射向外,提高出光)

Lead:引脚(电连接)

Solid-State Lighting | 固态发光源

luminosity (lumen, lm): a measure of visible light energy normalized to the sensitivity of the human eye at different wavelengths

提醒

这里的 luminosity 更准确叫 luminous flux(光通量),单位是 流明 lumen(lm)。

它的意思是:

  • lm 不是纯粹的“光能量”(那是物理里的辐射功率 W)
  • lm 是把光的能量按人眼对不同波长的敏感程度做了加权之后得到的“看起来有多亮”的量

直觉例子:

  • 同样 1 W 的光学功率,如果是 555 nm 绿光,人眼最敏感 → 看起来特别亮(lm 很大)
  • 如果是红外/深蓝,人眼不敏感 → 看起来暗(lm 很小,甚至接近 0)

所以:lm 是“以人眼感觉为准的亮度指标”,不是“真实能量”指标。

Luminous efficacy of lamps in lumen/watt

luminous efficacy(发光效率/光效)= 每消耗 1 W 电功率,产生多少 lm

数值越大代表:用同样的电,更“看起来亮”,也就是更省电、更高效

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表格右侧是两个极限值

  1. Theoretical limit at peak of eye sensitivity (λ=555 nm):683 lm/W

如果你能把“1 W 的光学功率”全部变成 555 nm 的单色绿光,在“光学功率 → 视觉亮度”这个换算里,最多就是 683 lm。

  1. Theoretical limit (white light):~340 lm/W

白光必须包含很多波长(红、绿、蓝等组合),而人眼对很多波长并没有 555 nm 那么敏感。 同样 1 W 的光学功率,如果分布在更宽的谱上,按人眼加权后得到的 lm 会更少,所以白光的上限大约只有单色绿光的一半左右。

OLED(有机发光二极管)的光效通常低于基于氮化物/铝化物的无机化合物 LED(比如 GaN / InGaN / AlGaN 等体系)

这在照明里常见:无机 LED(尤其氮化镓体系)在高亮、高效率上更强;OLED 优势更多在面光源、柔性、显示效果,但纯“照明光效”往往不如高性能无机 LED。

Terms(术语): luminosity measured in lumens. luminous efficacy. 两个术语

luminosity(这里更准确指“光通量 / luminous flux”):用 lumens(流明,lm)来量。

luminous efficacy(发光效率/光效):用 m/W(流明每瓦)来量。

Organic LEDs

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Some organic materials exhibit semiconducting properties 有些有机材料(共轭分子/聚合物)可以像半导体一样传输电荷(电子/空穴)。

OLEDs are attractive for low-cost, high-quality flat-panel displays OLED 适合做低成本、高质量的平板显示(薄、可大面积、可柔性、对比度高等)。

应该不太会考,稍微了解一下OLED也有类似的能带图即可

右图是一张 OLED 的示意结构(从左到右):

  • 左侧电极:ITO hole injector(ITO 透明导电电极,常做阳极) 作用:注入空穴,而且透明,方便出光。
  • 中间有机层被分成三层(图例里也标了): 558. Hole transporting layer(空穴传输层,HTL):负责让空穴更容易移动到中间 559. Emissive layer(发光层,EML):电子和空穴在这里相遇并复合 → 发光 560. Electron transport layer(电子传输层,ETL):负责让电子更容易移动到中间
  • 右侧电极:metal(金属阴极) 作用:注入电子。

能级标注:HOMO / LUMO

右图上面写 LUMO levels,下面写 HOMO levels:

  • HOMO(最高占据分子轨道)≈ 有机材料里的“价带顶” → 跟空穴相关
  • LUMO(最低未占据分子轨道)≈ 有机材料里的“导带底” → 跟电子相关

它是在用有机材料的“分子轨道能级”来类比无机半导体的 Ev,EcE_v, E_cEv,Ec。

Tunnel Diodes

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Degenerate doping(简并掺杂)= 掺得非常重,重到:

  • n 区的费米能级 EFnE_{Fn} 被推到 导带 EcE_c 里面(所以写 EFn>EcE_{Fn} > E_c) → n 区导带里已经“塞满”很多电子,像金属一样。
  • p 区的费米能级 EFpE_{Fp} 被拉到 价带 EvE_v 里面(所以写 EFp<EvE_{Fp} < E_v) → p 区价带里有大量空穴态(或者说价带空态非常多)。

可以到negative differential resistance(负微分电阻)状态,也就是电压继续升高,电流反而下降

为什么它“useful in high-speed circuits and perhaps static memories”

因为负微分电阻意味着:

  • 可以做振荡器/高频放大/快速开关:器件本身响应极快(隧穿是量子过程,时间尺度很短),常用在微波/高速电路。
  • 可以做双稳态(bistable)电路:I-V 的峰—谷结构允许在电路中形成两个稳定工作点,用来做简单的存储/触发器(“perhaps static memories”)。

零偏压(V=0):有隧穿,但净电流为 0

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  • 在热平衡下,两侧费米能级对齐(整个器件一个 EFE_F)。
  • 因为两边都存在“已占据态 ↔ 未占据态”的匹配,确实会发生隧穿:
    • n侧导带的电子可以隧穿到 p侧某些可用态;
    • p侧的电子也能反向隧穿到 n侧。
  • 但由于平衡态:两个方向的隧穿速率相同 ⇒ 净电流为 0。

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小正向偏压(p 端加正):隧穿电流迅速上升

当施加小正向电压时(p 端更正):

  • 能带相对位置发生错位:通常等效为p侧能带相对 n侧“下移”。
  • 这会让一个非常关键的事情发生: n侧导带里“已占据的电子态”会与 p侧价带里“未占据的空态(空穴对应的空电子态)”在能量上出现重叠。

于是出现强的带-带隧穿:

  • 电子从 n侧导带 → 穿过极薄耗尽层 → p侧价带的空态
  • 这不需要跨越势垒顶,只要满足“能量守恒 + 终态为空”。

为什么电流会随着 V 快速增大?

  • 正向偏压越大,两边“可隧穿的重叠能量窗口”越大(可用的初态/终态组合更多) ⇒ 隧穿电流迅速上升。

到达峰值 IpI_p(对应 VpV_p):重叠窗口最大

I–V 曲线的第一个峰(IpI_p at VpV_p)对应能带图里“隧穿最顺畅”的情况:

  • 此时 n侧导带中“被填充的一段”与 p侧价带中“空的一段”重叠面积最大
  • 可发生隧穿的态数最多 ⇒ 隧穿电流达到最大 IpI_p。

继续增大正向电压:进入负微分电阻区(NDR)

这是隧道二极管最“反直觉”也最重要的部分:电压变大,电流反而变小,即

dIdV<0\frac{dI}{dV} < 0

原因不是“势垒变高了”,而是更本质的——能态重叠在变小:

  • 随着 V 继续增大,两侧能带错位进一步加大。
  • 原先对得很好的“n侧导带已占据态”与“p侧价带空态”开始错开。
  • 结果:满足“初态被占据 + 终态为空 + 能量匹配”的组合变少 ⇒ 隧穿电流下降。

这就形成了图里从 IpI_p 往下掉到 IvI_v 的那段:负微分电阻区。

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到达谷值 IvI_v:隧穿通道基本关掉

当错位大到一定程度:

  • n侧导带的已占据态与 p侧价带的空态几乎不再重叠
  • 带-带隧穿大幅减弱 ⇒ 电流降到谷值 IvI_v。

更大正向电压(到 VfV_f 附近以后):回到“正常二极管”导通,电流再次上升

再往右,I–V 曲线又开始上升,并且越来越像普通二极管的指数上升(图里虚线/右侧上扬部分)。

此时主导机制变了:

  • 隧穿不再是主角(因为带-带对齐条件没了)
  • 正向势垒已经被明显降低
  • 开始出现经典的注入/扩散电流:
    • 电子从 n 注入到 p 的导带并在 p 区扩散/复合
    • 空穴从 p 注入到 n 的价带扩散/复合 ⇒ 电流再次快速增大(这对应你标的 VfV_f 之后那段)。

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反向偏压:也会有很大的隧穿电流(“反向就很容易通”)

图里也画了反向方向电流不小的特性(隧道二极管的反向特性不像普通二极管那样“几乎不导通直到击穿”)。

反向偏压时:

  • 两侧能带错位方向相反
  • 会让 p侧价带已占据态 与 n侧导带未占据态 出现重叠 ⇒ 电子可以从 p侧直接隧穿到 n侧导带 ⇒ 反向电流在比较小的反向电压下就能变得很大(而且比较“快”、不需要雪崩那种过程)。

P-i-n Photodiodes

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P+区与N+区重掺杂,几乎没有耗尽区,i区轻掺杂,耗尽区几乎占满了i层,所以W(耗尽层宽度)几乎等于Wi−regionW_{i-region},所有的光生电子也是几乎都在i层产生的。

由于i层电场很强,光生载流子在i层产生后,会被电场快速分离与收集,所以说又非常快的反应时间

工作在快雪崩击穿的状态,可以放大信号

Photodiode Applications

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普通光电二极管和雪崩光电二极管的对比

Photodiodes

一般都是工作在反偏状态下的PN结

问题

为什么反偏呢?

  1. 耗尽层宽,可以产生更多光生载流子
  2. 反偏电流小,光生载流子电流更显著
  3. 结电容小,RC延迟小

Avalanche photodiodes

工作在接近雪崩击穿的状态下,可以通过碰撞电离的方式来放大光生电流

Light Amplification

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Absorption 吸收:光子被“吃掉”,电子上跳

图(a)表示:

  • 系统里有一个电子在低能级 E1E_1。
  • 来了一个光子,能量 hν=E2−E1h\nu = E_2 - E_1。
  • 电子吸收这个光子,上跳到高能级 E2E_2。
  • 结果:光子消失,光强减少。

一句话:吸收把光能变成电子的激发能。

Spontaneous Emission 自发辐射:电子自己掉下来,随机发光子

图(b)表示:

  • 电子本来在高能级 E2E_2(被激发态)。
  • 不需要外来的光子触发,电子也会“自己”掉回低能级 E1E_1。
  • 同时放出一个光子,能量同样是 hν=E2−E1h\nu=E_2-E_1。

关键点:自发辐射发出的光子方向、相位、时间都是随机的。 所以它像“灯泡”那样发散,不会形成整齐一致的光束。

Stimulated Emission 受激辐射:来一个光子,诱导再出一个“一模一样”的光子

图(c)是整页最重要的机制(激光的核心):

  • 电子在高能级 E2E_2。
  • 来了一个光子(能量匹配 E2−E1E_2-E_1)。
  • 这个光子“刺激”电子从 E2E_2 掉到 E1E_1,同时放出第二个光子。

最关键的性质(图下方黄框写的):

受激辐射产生的光子与刺激光子 频率相同、方向相同、相位一致(相干)。

所以结果是:输入 1 个光子 → 输出 2 个“复制光子”。

这就是“光被放大”的微观原因。

Net Light Absorption 净吸收:为什么通常情况下还是“吸收占上风”

右侧(d)画的是:大多数电子在低能级 E1E_1,高能级 E2E_2 人很少。

这时如果光通过:

  • 吸收发生的前提:需要 E1E_1 有电子(通常很多) → 吸收概率大
  • 受激辐射发生的前提:需要 E2E_2 有电子(通常很少) → 受激辐射概率小

所以总体效果: 被吸收的光子数 > 受激产生的光子数 → 光越走越弱(净吸收)。

这就是为什么普通材料不加“泵浦”的时候不会自动变成光放大器。

Net Light Amplification 净放大:必须有“粒子数反转”

右侧(e)画的是:高能级 E2E_2 的电子反而比低能级 E1E_1 多。

这就是右边黄框强调的 population inversion(粒子数反转):

高能级的占据概率 f(E2)f(E_2) 大于低能级 f(E1)f(E_1)。

在这种情况下:

  • 受激辐射所需的 E2E_2 电子很多 → 受激辐射概率大
  • 吸收所需的 E1E_1 电子反而少 → 吸收概率小

于是总体效果: 受激产生的光子数 > 被吸收的光子数 → 光越走越强(净放大)。

Light Amplification in P-N Diode

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记一个要产生粒子数反转的条件吧

qV=Efn−Efp>EgqV=E_{fn}-E_{fp}>E_g

上态(导带相关态)被占据的概率,比下态(价带相关态)还“更容易被占据”(或者等价地说:下态空位足够多、上态电子足够多),从统计上让受激辐射压过吸收,材料出现净增益(gain)。

Optical Feedback and Laser

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先定义三个量:

  • R1,R2R_1, R_2:两端镜面的反射率(0 到 1 之间)
  • G:光走完“一圈”之后的净放大因子(round-trip gain)
    • 它把“在增益区的受激辐射放大”减去“传播损耗、吸收、散射、自由载流子吸收”等所有损耗后的结果合在一起

用“走一圈”理解它

假设腔内某一时刻有光强 I0I_0。

  1. 光从左端出发,经过增益介质,被放大 → 变成 I0×Gsingle-passI_0 \times G_{\text{single-pass}}
  2. 到右端镜面,反射回来 → 乘上 R2R_2
  3. 回来再经过一次增益介质(再放大一次) → 再乘一个 Gsingle-passG_{\text{single-pass}}
  4. 到左端镜面,再反射 → 乘上 R1R_1

所以走完一圈大致是:

Iafter=I0×R1×R2×(Gsingle-pass)2I_{\text{after}} = I_0 \times R_1 \times R_2 \times (G_{\text{single-pass}})^2

课件把“来回两次增益 + 传播损耗”等全部打包成一个 G(round trip 的净因子),于是写成:

Iafter=I0×R1R2GI_{\text{after}} = I_0 \times R_1 R_2 G

阈值条件就是“回来不要变小”:

  • 如果 R1R2G<1R_1R_2G < 1:每走一圈都会衰减 → 光只能是微弱自发辐射,无法形成激光
  • 如果 R1R2G>1R_1R_2G > 1:每走一圈都会增长 → 光会指数增长(直到增益饱和)
  • 阈值点:
R1R2G=1R_1R_2G = 1

Light intensity grows until R1R2G=1R_1R_2G = 1s, when the light intensity is just large enough to stimulate carrier recombinations at the same rate the carriers are injected by the diode current.

  • 一开始你把电流加大,载流子堆积 → 增益变大(更容易受激辐射)
  • 当腔内光强变大时,受激辐射会更频繁 → 把载流子“消耗”掉(电子空穴复合成光子)
  • 光越强,消耗越快,直到进入一个平衡: 注入 = 消耗(载流子不再无限堆积)

这会导致一个非常重要的非线性效果:增益饱和(gain saturation) 腔内光强足够大时,材料的可用反转被“拉平”,有效增益会自动下降到“刚好补偿损耗”的水平,于是系统稳定在:

R1R2G=1R_1R_2G = 1

Laser Applications

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Red diode lasers(红光二极管激光器)

应用:CD、DVD 读写器(reader/writer)

  • CD/DVD 的读写是用激光照到盘面,通过反射强弱变化读取信息;写入则用激光加热改变记录层状态。
  • 红光(或近红外)激光器技术成熟、成本低、稳定,所以早期光盘系统常用。

Blue diode lasers(蓝光二极管激光器)

应用:Blu-ray DVD(蓝光光盘,存储密度更高)

  • 蓝光的波长比红光更短。
  • 光学系统能聚焦的最小光斑大小大致与波长成正比(波长越短,光斑越小)。
  • 光斑更小 → 可以刻录/读取更小的坑点(pit)和更密的轨道 → 单位面积能存更多数据,所以写“higher storage density(更高存储密度)”。

这就是蓝光光盘比 DVD 容量更大的根本原因之一。

1.55 µm infrared diode lasers(1.55 微米红外二极管激光器)

应用:Fiber-optic communication(光纤通信)

  • 1.55 µm(PPT 写“mm”应是笔误,应该是 µm 微米)是光纤通信的经典波段之一。
  • 在这个波段,标准石英光纤的衰减最低(信号传得最远),同时也常用掺铒光纤放大器等技术配合。
  • 所以 1.55 µm 红外半导体激光器广泛用于长距离、高速的光纤通信。
Lecture 7:金半接触
Lecture 9:MOS 电容

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